【创源大讲堂】分子束全息光刻技术及应用
讲座题目:分子束全息光刻技术及应用讲座内容:传统光刻技术通常依赖光刻胶模板,并需通过刻蚀或剥离工艺完成图案转移,工艺流程复杂,且在多材料体系中常受材料兼容性限制。部分现有的直接图案化方法虽简化了流程,但在构建复杂结构或实现高精度对准方面仍存在挑战。本次报告将介绍一种基于分子束莫尔干涉效应的全新图案化策略,即 “分子束全息光刻技术”。该方法无需使用光刻胶,可对任意可蒸发材料(包括金属、氧化物和有机半导体等)直接形成高分辨率纳米图案,并可适用于复杂三维表面和超晶格结构的构建。其核心...